朗讀芯片行業新進展，首台n+1工藝光刻機大突破！國際社會這下被打臉第芯片行業新進展，首台n+1工藝光刻機大突破！國際社會這下被打臉

《芯片行業新進展，首台n+1工藝光刻機大突破！國際社會這下被打臉》
閑品科技華為5G在業內業外鬧得是沸沸揚揚，美國一招制裁更是讓麒麟9999芯片成為“絕響”，不過如今中國可不再會被芯片行業給絆住腿腳了，中國芯片行業再傳新進展，國產光刻機實現大突破，這回國際社會可就要被打臉了。近日，有消息稱中國國產光刻機終於實現了重大突破，在高端光刻機領域終於實現了22nm精度的光刻機，首台n+1工藝的光刻機落地。想當初，中國芯片技術在國際社會上可是備受冷眼，甚至有荷蘭專家還表示就算把技術圖紙放在中國面前，中國都做不出來，如今可要被打臉了。雖然這個光刻機的精度和現在國際上最先進的荷蘭可以達到5nm精度的光刻機並不能相比，甚至就連華為公司需要的7nm芯片同樣無法制造。但是就中國早有的光刻機技術只能停留在28nm的程度還是一件十分令人驚喜的消息，畢竟飯要一口一口慢慢吃，芯片自然也要一點一點慢慢做。光刻機和芯片行業有什麼關系？之前不是有說中芯研制出來7nm芯片的消息嗎？
其實關於這個小標題應該是很多人的疑問了，畢竟在不了解內情的人看來，怎麼越研制還越倒退呢？其實並不是如此，中芯研制的是如何制造7nm芯片的技術，也確實十分重要，但是在這個基礎上還要求有這個芯片是可以制造得出來的。這就要說到光刻機了，光刻機作為芯片制造行業中的“璀璨明珠”其重要性就好比做飯，就算把食譜放在你面前，手殘的一樣做不出來，而這個光刻機就是制造芯片中最重要的手藝。只有高精度的光刻機，才有制造高端芯片的能力。但光刻機的制造技術卻難度很大，並且中國本就比比人發展更慢一步，還要全方位發展，難免就多有疏忽，這也是為什麼的外國光刻機技術的精度在這之前依然只有28nm的原因，所以光刻機技術一直就是中國的短板之一，不然那也不至於，美國的一個禁令，就能對中國實現“卡脖子”。
當然從另一方面說，即便中國光刻機精度技術終於突破到22nm，也依然制造不出華為所需要的芯片，但是作為在半導體行業確實十分落後的我們來說，這一步的跨越得足足有6nm的精度，相信中國在之後自然還會有更多的突破。畢竟自從美國的禁令之後，中國才正式下定決心要補上短板，就科研實踐來說，這段時間確實十分短暫，中國就能實現這樣的技術大突破，生產出了中國首台n+1工藝的光刻機，這就讓未來再次擁有了無限可能。還要謝謝美國給了機會，讓中國補上短板，有了自己的國產光刻機。畢竟華為5G技術是國人的驕傲，但是芯片卻始終是一道刻痕，就像是受傷之後去醫院看診，要把傷口拿出來清洗一番才能最終縫合一樣，中國芯片想要真正成功，這一步終究是不可少的，所以這確實一件好事，要好好謝謝美國。還有一個好消息就是，中芯已經開始准備和ASML展開新的談判，加快采購國外更先進的EUV極紫外光刻機，如果成功，將會實現芯片量產。
《芯片行業新進展，首台n+1工藝光刻機大突破！國際社會這下被打臉》完，請繼續朗讀精采文章。
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